Японская компания Dai Nippon Printing усовершенствовала нанолитографию

Компания Dai Nippon Printing из Японии объявила об улучшении процесса нанолитографии, который стал более экономически выгодным по сравнению с традиционной фотолитографией, доминирующей на рынке. Как сообщает Nikkei Asia, нидерландская компания ASML контролирует до 90% рынка оборудования для производства полупроводников с использованием фотолитографии. Эта технология, основанная на мощных УФ-лазерах, требует значительных энергетических затрат, а стоимость оборудования превышает сотни миллионов долларов. Новая разработка японцев ставит под сомнение существующую ситуацию, возвращая к технологии нанолитографии, которая печатает схемы на кремниевых пластинах. Ранее считалось, что данный метод не подходит для чипов с топологией меньше 2 нм, но инженеры Dai Nippon Printing разработали специальный материал, позволяющий преодолеть это ограничение. С помощью оборудования Canon теперь можно создавать структуры размером до 1,4 нм. В результате новая нанолитография оказывается на 90% дешевле фотолитографии. Ведущие компании, такие как Samsung Electronics, TSMC и Micron Technology, уже проявили интерес к разработке. Kioxia начала тестовое производство, и если результаты будут положительными, массовое внедрение новой технологии может состояться в 2027-2028 годах.