Китай создал прототип литографа для чипов

Китайская полупроводниковая промышленность сообщила о значительном достижении: был разработан первый прототип установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Эта технология, ранее находившаяся под контролем голландской компании ASML, имеет ключевое значение для создания самых современных процессоров. Несмотря на усилия США, направленные на предотвращение передачи технологии Китаю, новые данные свидетельствуют о заметном прогрессе китайских специалистов. В последние годы компании, такие как SMIC, активно работали над воссозданием технологий ASML, включая привлечение экспертов и обратную разработку. Использование устаревших компонентов ASML стало одним из методов достижения успеха. Несмотря на достижения, серийное производство чипов с EUV в Китае еще не начато, однако страна планирует массовое внедрение этой технологии к 2030 году. В то же время, Huawei и SMIC активно развивают производственные мощности в Китае, что подчеркивает растущее технологическое соперничество с США.