В России начнут разработку первого литографа на 90 нм

В начале 2026 года в России начнется разработка первого литографа, способного производить микросхемы на основе 90-нм технологии. Заместитель министра промышленности озвучил эту информацию в конце марта. На данный момент в стране уже функционирует 350-нм литограф, а также завершается работа над 130-нм моделью.

Процесс импортозамещения в микроэлектронной отрасли, начатый в 2022 году, продолжает развиваться. Новый 90-нм литограф позволит производить широкий ассортимент микросхем для различных сфер, включая интернет вещей, автоэлектронику и другие приложения.

Главным разработчиком этого оборудования выступает Зеленоградский нанотехнологический центр, который активно работает над реализацией полного цикла фотолитографии без иностранных компонентов. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев сообщил, что уже заключены контракты на поставку новых машин и ведется отработка технологий с клиентами.

При этом, стоимость разработанных литографов будет вполне доступной, и возможно, к 2030 году Россия сможет выйти на производство 65 нм и даже 28 нм устройств. Однако стоит учитывать, что между созданием прототипов и серийным выпуском может пройти значительное время. Тем не менее, процесс живет и развивается.