Первое оборудование для производства микросхем 65 нм в России

В Зеленограде состоялась презентация первого в России оборудования, предназначенного для производства микросхем с технологическим процессом 65 нм на 300-миллиметровых пластинах. Разработчики, компании НИИМЭ и НИИТМ, создали установки для плазмохимического осаждения и травления, которые являются ключевыми этапами в производстве чипов. Всего лишь пять компаний по всему миру могут похвастаться подобными технологиями.

На мероприятии, прошедшем 10 декабря, были подписаны документы о госприемке оборудования. НИИ молекулярной электроники выступил ведущим исполнителем проекта, а инвестиции в его реализацию составили 2,5 миллиарда рублей, включая средства из госзаказов Минпромторга.

Созданные системы позволяют выполнять до 40% операций по производству микросхем и обеспечивают гибкость в переходе на современные 300-миллиметровые технологии. Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов отметил, что это достижение символизирует важный шаг к технологической независимости российской микроэлектроники.

Производители планируют искать заказчиков как в России, так и за рубежом, включая презентацию оборудования в Китае в следующем году. Готовность к производству одного комплекта оборудования составит около 1,5 лет.